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作为高温高压光学浮区法晶体生长领域的标杆设备，德国Scientific Instruments Dresden GmbH（以下简称：ScIDre）公司研发的HKZ系列高温高压光学浮区炉，凭借2000~3000℃高温、高达300 bar的生长腔压力，以及10-5 mbar高真空环境等优异的综合性能，成为超导材料、介电与磁性材料、氧化物、金属间化合物、锂电池电极材料等各类功能单晶制备的核心设备，广泛应用于国内外高校、科研院所及材料研发机构。
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中国物理学会2012秋季学术会议于2012年9月2023日在中山大学成功举办。本次大会共设粒子物理、纳米与介观物理、磁学、表面与低温物理等15个分会场，参会人数超过2200人，是历届物理年会中规模大的一次。
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2012年8月28-31日，经过为期4天的安装和用户培训后，国内台MicroWriter ML无掩模激光直写光刻系统在厦门大学完成验收，本次安装，由MicroWriter ML无掩模激光直写光刻系统的设计者、剑桥大学卡文迪许实验室Prof.. Russell Cowburn (英国科学院院士)亲自完成。
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由中国材料研究学会主办的2012中国材料大会于2012年7月1318日在山西省太原市太原理工大学举办。大会共设23 个分会场及材料教育论坛、材料学术期刊论坛。
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2012年6月18-22日，经过为期的安装和调试以及4天的用户培训后后，国内台由美国NanoInk公司生产的多功能台式纳米加工与刻蚀系统---DPN-5000纳米加工制备仪在中国科学院半导体研究所完成验收。
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2012年6月18-20日，经过为期3天的安装和用户培训后，国内台NanoMOKE3磁光克尔测量系统在首都师范大学完成验收，系统的性能、便捷的操作受到用户的高度评价。
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作为全球一家拥有Dip Pen Nanolithography®技术（简称DPN）的仪器制造商，迄今为止，美国NanoInk公司已经取得了多达160项与DPN相关的。
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