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作为高温高压光学浮区法晶体生长领域的标杆设备，德国Scientific Instruments Dresden GmbH（以下简称：ScIDre）公司研发的HKZ系列高温高压光学浮区炉，凭借2000~3000℃高温、高达300 bar的生长腔压力，以及10-5 mbar高真空环境等优异的综合性能，成为超导材料、介电与磁性材料、氧化物、金属间化合物、锂电池电极材料等各类功能单晶制备的核心设备，广泛应用于国内外高校、科研院所及材料研发机构。
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本文将从Angew和JACS高水平文献出发，阐述easyXAFS台式X射线吸收谱仪系统如何助力电池材料机理研究。
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2021年，意大利比萨大学Ciampalini教授课题组利用小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3 制备出基于MoS2-石墨烯异质结构的多场效应管器件，在场效应管器件中直接测量了MoS2-石墨烯异质结构的电输运特性。通过比较MoS2的跨导曲线和石墨烯的电流电压特性，发现在n通道的跨导输运被抑制，这一现象明显不同于传统对场效应的认知。借助第一性原理计算发现这一独特的输运抑制现象与硫空位相关。
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近期，来自印度Darrang大学的R.K. Basumatary等研究者利用MicroSense EZ系列振动样品磁强计探究了不同含量和不同条件下制备的Co掺杂FePtCo薄膜FCC结构对磁性能的影响，以及Cu插入层对晶体生长结构和表面粗糙度的影响，该工作被发表在Journal of Alloys and Compounds期刊上。
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2023年5月18日-19日，由北京大学生命科学学院，蛋白质科学研究（北京）国家重大科技基础设施北京大学基地，Quantum Design中国子公司，瑞士Cytosurge公司共同举办的多功能单细胞显微操作系统2023年度用户峰会暨FluidFM 技术应用研讨会圆满落幕。
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Moorfield Nanotechnology公司全新推出了台式高精度溅射与热蒸发系统——nanoPVD ST15A。该系统可以集成金属/绝缘体溅射、金属热蒸发、有机物蒸发功能，在同一台设备中可以实现多种制备手段的组合，将薄膜制备带入了新的高度。
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为了满足微纳器件对光刻的需求，Quantum Design中国推出了小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter ML3作为微纳器件光刻的解决方案。与传统的掩模光刻相比，MicroWriter ML3根据用户计算机中设计的图形在光刻胶上制备出相应的结构，节省了制备光刻板所需要的时间和经费，可以实现用户对光刻结构快速迭代的需求。目前，MicroWriter ML3在国内的拥有量超过150台，被用于各类微纳器件的光刻加工。
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