新品推出：新一代高精度温铯离子源FIB系统正式亮相

发布日期：2021-06-18

随着半导体器件、量子器件和材料科学等领域的蓬勃发展，器件的尺寸变得越来越小、结构越来越复杂，与之相应的微纳尺度下的加工精度要求越来越高。聚焦离子束（FIB）系统已成为相关领域的研究中不可或缺的关键设备。截止到目前，可商购的FIB系统大都使用液态金属或惰性气体作为离子源，但是采用上述离子源的FIB系统在加工精度，加工速度，维护难度和使用费用等方面很难达到令人满意的平衡，因此两者并非FIB系统的理想离子源选择。

为了解决商用FIB系统中存在的上述问题，2020年，美国zeroK NanoTech公司运用曾获诺贝尔奖的激光冷却技术，推出了新一代高精度温铯离子源FIB系统——FIB: ZERO。该系统采用温铯离子源（Cs+ LoTIS），在很大程度上减少了离子的随机运动，使FIB：ZERO中的离子束斑与传统离子源产生的束斑相比具有更高的亮度，更小的尺寸，和更低的能量散失。因此，可以获得更清晰的成像、更高的加工精度和更少的样品损伤。同时，也显著降低了维护难度和使用成本。近日，Quantum Design中国正式引进新一代高精度温铯离子源FIB系统，希望能够帮助我国科学家在半导体器件、量子器件和材料科学等领域有更深入的研究。

新品亮点

1. 更清晰的成像效果，更大的成像景深

传统离子源	新一代温铯离子源

2. 更明显的对比度

传统离子源	新一代温铯离子源

3.  更高的加工精度（相同时间）

4. 更好的加工均匀性（相同时间）

5. 对样品小的损伤范围

Stopping and Range of Ions in Matter（SRIM）模拟不同离子源产生的离子束在硅中的影响范围

传统气体离子源	传统液态金属离子源	新一代温铯离子源