超百家用户单位认可！小型无掩膜光刻直写系统落户香港中文大学，助力微纳材料研究
近日，香港中文大学电子工程学院引入由Quantum Design中国公司引进的新版小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3。该设备由工程学院副院长，材料研究中心主任许建斌教授课题组主导应用，重点为纳米电子学及光子学、二维材料、能源科技等前沿领域的研究提供关键微加工技术支持，助力香港中文大学在上述领域突破技术瓶颈、产出高水平科研成果。
香港中文大学完成安装的小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3
作为当前微加工领域的核心设备之一，小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3，无需制作掩膜版，可直接将设计好的版图文件，如电路结构，微流控通道，光学微栅等，在光刻胶衬底上直接曝光。这一特性不仅省去了传统光刻流程中掩膜版设计、制作与适配的复杂环节，更凭借高效率、高精度、自动化等技术特点，大幅缩短微加工周期、提升工艺稳定性，广泛适用于纳米电子器件制备、微纳光子结构加工、生物微流控芯片研发等各类微加工相关科研场景。
值得关注的是，截至目前，MicroWriter ML3在国内已有上百家用户单位，经过多年实际应用验证与技术迭代，其性能稳定性与工艺适配性获得学界广泛认可，依托该设备的诸多高水平科研成果已在众多知名期刊发表，充分证明了其在推动前沿微纳研究中的核心价值。
此次落户于香港中文大学的MicroWriter ML3为最新升级版本，在技术参数上实现多维度优化，进一步拓展了科研应用边界：
分辨率覆盖全面：提供 0.4 μm、0.6 μm、1 μm、2 μm、5 μm 五种加工分辨率，可满足从精细纳米结构到常规微尺度图形的多样化加工需求；
光源适配灵活：集成 405 nm 与 365 nm 双光源，支持自动切换模式，可兼容各类正性、负性光刻胶，无需更换光源模块即可实现不同光刻胶的工艺优化；
套刻精度超卓：最高套刻精度优于 0.5 μm，确保多层微结构叠加加工时的对准精度，为复杂器件（如多层纳米电路、异质结微器件）的制备提供关键保障；
工艺能力拓展：具备背面对准功能，可实现透明衬底、柔性衬底等特殊基底上的精准光刻，丰富了微加工工艺的应用场景；
加工效率领先：最大直写速度超过 180 mm²/min，在保证精度的同时显著提升加工效率，满足批量样品制备与快速工艺验证需求。
小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3
Quantum Design中国始终以国内科研需求为核心，充分发挥 “前沿技术桥梁” 作用，持续将国外具有优质前沿技术特色的设备引入国内，为科研工作者提供技术支持与服务保障。此次与香港中文大学的合作，不仅进一步扩大了公司设备技术在粤港澳大湾区科研领域的认可度，更标志着双方推动国内前沿微纳电子学领域研究的重要实践。
未来，随着 MicroWriter ML3 在香港中文大学的常态化应用，其高效、精准的微加工能力将为该校相关领域研究提供更坚实的技术支撑，助力科研团队在纳米电子器件性能优化、二维材料器件集成、新型能源存储微结构设计等方向取得更多突破性进展，推动我国在前沿纳米科技领域的研究水平进一步提升。