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新一代电弧等离子体沉积系统:同时使用多种靶材制备新化合物

发布日期:2019-12-09

日本ADVANCE RIKO公司总结多种薄膜沉积技术,发布电弧等离子体沉积(APD)系统。其工作原理主要分为三步:首先在触发电极上加载高电压后,电容中的电荷充到阴极(靶材)上;其次真空中的阳极和阴极(靶材)间,电子形成了蠕缓放电,并产生放电回路,靶材被加热并形成等离子体;后通过磁场控制等离子体照射到基底上,形成薄膜或纳米颗粒。


APD工作原理 


电弧等离子体沉积系统利用5个高能电容器,通过改变电容器使用数量,使充电电压发生改变,从而控制脉冲能量,终达到精确控制薄膜厚度的目的。同时可以在1.5nm到6nm范围内精确控制纳米颗粒直径,活性好,产量高。

 

 

APD制备的Fe-Co纳米颗粒的SEM和EDS图谱 


电弧等离子体沉积系统多搭载3个沉积源,可以同时/交替使用多种靶材,使得制备新化合物成为可能。金属/半导体制备同时,控制腔体气氛,可以产生氧化物和氮化物薄膜。另外,高能量等离子体可以使碳靶材离子化,在碳单质体如非晶碳,纳米钻石,碳纳米管沉积与制备方面有广泛的应用。