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台式三维原子层沉积系统 ALD      
 

台式三维原子层沉积系统ALD

  原子层沉积Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此,它是一种真正的“纳米”技术,以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性,因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。

   美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统,在小巧的机身(78 x56 x28 cm)中集成了原子层沉积所需的所有功能,可最多容纳98英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁,结合前驱体瓶加热,管路加热,横向喷头等设计, 使温度均匀性高达99.9%,气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅实现在 8英寸基体上膜厚的不均匀性小于1%,而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖,可实现对高达15001长径比微纳深孔内部的均匀沉积。

GEMStar XT 产品特点:

* 300℃ 铝合金热壁,对流式温度控制

* 175℃温控150ml前驱体瓶,200℃温控输运支管

* 可容纳多片468英寸样品同时沉积

* 可容纳1.25英寸/32mm厚度的基体

* 标准CF-40接口

* 可安装原位测量或粉末沉积模块等选件

* 等离子体辅助ALD插件

* 多种配件可供选择

GEMStar XT 产品型号:

GEMStar XT-S

* 最大8英寸/200 mm基片沉积(4'和6' 可选)

* 单路前驱体输运支管, 4路前驱体瓶接口

* 可升级为等离子体增强ALD

GEMStar XT-D

* 最大8英寸(200mm)基片沉积(4'和6' 可选)

* 双路前驱体输运支管, 8路前驱体瓶和CF-40接口

* 可升级为等离子体增强ALD

 

GEMStar XT-P

* 最大8英寸/200mm基片沉积(4'和6 '可选)

* 双路前驱体输运支管, 8路前驱体瓶和CF-40接口

* 装备高性能ICP等离子发生器

  13.56 MHz 的等离子源非常紧凑,只需风冷,最高运行功率达300W

* 标配3组气流质量控制计(MFC)控制的等离子气源线,和一条MFC控制的运载气体线,使难以沉积的氧化物、氮化物、金属也可以实现均匀沉积。

   
 新产品发布:
 
 GEMStar NanoCUBE

* 最大100 mm 立方体样品 沉积(4'和6' 可选)

* 单路前驱体输运支管, 2路前驱体瓶接口

* 主要用于3D多孔材料,以及厚样品的沉积

丰富配件:

 

多样品托盘:

* 多样品夹具,样品尺寸(8", 6", 4")向下兼容。

* 多基片夹具,最多同时容纳9片基片。

 

温控热托盘:

* 可加热样品托盘,最高温度500℃,可实现热盘-热壁复合加热方式。

 

尾气处理系统:

 

臭氧发生器:

 

粉末旋转沉积罐模块:

配合热壁加热方式,进一步实现对微纳粉末样品全保型薄膜均匀沉积包覆。

 

 

手套箱接口:

可从侧面或背面完美接入手套箱,与从底部接入手套箱不同,不占用手套箱空间。由于主机在手套箱侧面,反应过程中不对手套箱有加热效应,不影响手套箱内温度。

 




应用案例

 

应用领域

 

国内外用户

已发表文献

• Loïc Assaud et al. Systematic increase of electrocatalytic turnover over nanoporous Pt surfaces Prepared by atomic layer deposition. J. Mater. Chem. A (2015) DOI: 10.1039/c5ta00205b

 Xiangyi Luo et al. Pd nanoparticles on ZnO-passivated porous carbon by atomic layer deposition: an effective electrochemical catalyst for Li-O2 battery. Nanotechnology(2015) 26, 164003. DOI:10.1088/0957-4484/26/16/164003

• HengweiWang, et al. Precisely-controlled synthesis of Au@Pd coreshell bimetallic catalyst via atomic layer deposition for selective oxidation of benzyl alcohol. Journal of Catalysis (2015) 324, 5968. DOI: 10.1016/j.jcat.2015.01.019

 Sean W. Smith, et al. Improved oxidation resistance of organic/inorganic composite atomic layer deposition coated cellulose nanocrystal aerogels. J. Vac. Sci. Technol. A (2014) 4, 32 DOI: 10.1116/1.4882239

 Fatemeh Sadat MinayeHashemi et al. A New Resist for Area Selective Atomic and Molecular Layer Deposition on MetalDielectric Patterns. J. Phys. Chem. C (2014), 118, 1095710962. DOI: 10.1021/jp502669f

 Jeffrey B. Chou, et.al Enabling Ideal Selective Solar Absorption with 2D Metallic Dielectric Photonic Crystals. Adv. Mater. (2014), DOI: 10.1002/adma.201403302.

 Jin Xie, et al. Site-Selective Deposition of Twinned Platinum Nanoparticles on TiSi2 Nanonets by Atomic Layer Deposition and Their Oxygen Reduction Activities. ACS Nano (2013), 7, 63376345. DOI: 10.1021/nn402385f

 Pengcheng Dai, et al. Solar Hydrogen Generation by Silicon Nanowires Modified with Platinum Nanoparticle Catalysts by Atomic Layer Deposition. Angew. Chem. Int. Ed. (2013), 52, 1 6. DOI: 10.1002/anie.201303813

 Joseph Larkin et al. Slow DNA Transport through Nanoporesin Hafnium Oxide Membranes. ACS Nano (2013), 11, 1012110128. DOI: 10.1021/nn404326f

 Thomas M et al. Extended lifetime MCP-PMTs: Characterization and lifetime measurements of ALD coated microchannel plates, in a sealed photomultiplier tube Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A (2013) 732, 388391. DOI: 10.1016/j.nima.2013.07.023

 Kevin J. Maloney et al. Microlattices as architected thin films: Analysis of mechanical properties and high strain elastic recovery. APL Mater. 1, 022106 (2013) DOI: 10.1063/1.4818168

 Sean W. Smith et al. Improved Temperature Stability of Atomic Layer Deposition Coated Cellulose Nanocrystal Aerogels. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. (2012) DOI: 10.1557/opl.2012.  

 
   
     
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