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新一代电弧等离子体沉积系统:同时使用多种靶材制备新化合物
 
    日本ADVANCE RIKO公司总结多种薄膜沉积技术,发布电弧等离子体沉积(APD)系统。其工作原理主要分为三步:首先在触发电极上加载高电压后,电容中的电荷充到阴极(靶材)上;其次真空中的阳极和阴极(靶材)间,电子形成了蠕缓放电,并产生放电回路,靶材被加热并形成等离子体;最后通过磁场控制等离子体照射到基底上,形成薄膜或纳米颗粒。
APD工作原理 
    电弧等离子体沉积系统利用5个高能电容器,通过改变电容器使用数量,使充电电压发生改变,从而控制脉冲能量,最终达到精确控制薄膜厚度的目的。同时可以在1.5nm到6nm范围内精确控制纳米颗粒直径,活性好,产量高。 
 
APD制备的Fe-Co纳米颗粒的SEM和EDS图谱 
    电弧等离子体沉积系统最多搭载3个沉积源,可以同时/交替使用多种靶材,使得制备新化合物成为可能。金属/半导体制备同时,控制腔体气氛,可以产生氧化物和氮化物薄膜。另外,高能量等离子体可以使碳靶材离子化,在碳单质体如非晶碳,纳米钻石,碳纳米管沉积与制备方面有广泛的应用。 

产品特点
 
1.    可以通过调节放电电容量,控制纳米颗粒直径在1.5nm到6nm范围内。
2.    APD系统适用于多种导电靶材,电阻率小于0.01Ω.cm的靶材系统都可以将其等离子体化。
3.    改变系统的气氛氛围,可以制备氧化物或氮化物。石墨在氢气中放电能产生超纳米微晶钻石。
4.    用该系统制备的纳米颗粒用于催化,催化活性高于湿法制备。
5.    Model APD-P支持将纳米颗粒做成粉末。Model APD-S适合在2英寸基片上制备均匀薄膜。
 
 
     
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